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国林科技:公司半导体臭氧发生装置多用于Fab工厂的晶圆制造环节,主要提供清洗、氧化、薄膜沉积工艺制程的应用

信息来源:carving-china.com   时间: 2022-08-05  浏览次数:4

同花顺(300033)金融研究中心8月3日讯,有投资者向国林科技(300786)提问, 请问公司的半导体臭氧发生装置是用在芯片制造的什么环节啊?是晶圆厂、封装厂还是光刻厂?

公司回答表示,尊敬的投资者,您好。公司半导体臭氧发生装置多用于Fab工厂的晶圆制造环节,主要提供清洗、氧化、薄膜沉积工艺制程的应用。感谢您的关注。

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